硅酸鈣板生產(chǎn)線料漿濃度控制系統(tǒng)研發(fā)
摘要:為了解決硅酸鈣板料漿濃度控制問題,設(shè)計了料漿濃度檢測及控制系統(tǒng)。介紹了基于PLC的閉環(huán)控制系統(tǒng)PID控制,通過實驗驗證了此方法的可行性。
0 引言
在硅酸鈣板生產(chǎn)中,料漿濃度影響板坯厚度的穩(wěn)定性,影響產(chǎn)品的質(zhì)量及合格率。本文介紹了料漿濃度的PID(比例、積分、微分)控制系統(tǒng),部分實驗情況。
1 料漿濃度控制系統(tǒng)
控制系統(tǒng)如圖所示,儲漿池的料漿通過渣漿泵輸入預(yù)攪拌罐,預(yù)攪拌罐的料漿通過罐底手動蝶閥放入流漿箱制板。由于生產(chǎn)中有回料,會造成儲漿池的料漿濃度不穩(wěn)定,影響制板厚度。為穩(wěn)定預(yù)攪拌罐料漿濃度,系統(tǒng)設(shè)計為儲漿池濃度配比稍高些,放入預(yù)攪拌罐。另外通過電動調(diào)節(jié)閥按控制要求放入清水以調(diào)配預(yù)攪拌罐的料漿濃度,使其保持穩(wěn)定。重量傳感器或濃度計檢測到的濃度值輸入PLC的PID控制器中,該值與控制器的設(shè)定值進行比較。比較后控制器將輸出調(diào)節(jié)信號,以控制電動調(diào)節(jié)閥的流量,使預(yù)攪拌罐的料漿濃度值趨向于設(shè)定值。
控制系統(tǒng)
2 PLC中PID控制器的實現(xiàn)
下面以O(shè)MRON PLC為例,說明PID控制器的組成原理;PID控制的算法原理及控制功能的實現(xiàn)。
2.1 PID控制器的組成原理
以PLC作為控制器構(gòu)成的閉環(huán)控制系統(tǒng),如圖2所示。圖中的虛線部分1由PLC來實現(xiàn)。檢測元件將被控量實際值S測量轉(zhuǎn)換為模擬1~5V電壓信號或4mA~20mA的電流信號,該模擬信號接至PLC的AI模塊,進行A/D轉(zhuǎn)換,根據(jù)用戶編寫的PID控制程序,將測量值S與給定值C比較,通過二者的偏差進行PID算法的運算得到輸出操作信號D,經(jīng)PLC的AO模塊進行D/A轉(zhuǎn)換,轉(zhuǎn)換后的模擬信號(1~5V電壓信號或4mA~20mA的電流信號)用于驅(qū)動執(zhí)行機構(gòu),實現(xiàn)對被控對象的控制。
PLC閉環(huán)控制系統(tǒng)構(gòu)成
2.2 PID控制器的算法原理
OMRON PLC編程軟件提供PID控制中的運算以目標(biāo)值濾波型2自由度的控制方式進行。[Page]
KP:比例常數(shù) Ti:積分時間 Td:微分時間
τ:取樣周期 α:2-PID參數(shù) λ:不完全微分系數(shù)
目標(biāo)值濾波型2自由度PID運算框圖
在單純PID控制中,對于干擾的穩(wěn)定性則會變得遲緩,相反如果要加快對干擾的穩(wěn)定,對于目標(biāo)值的應(yīng)答就會變慢。在2自由度PID控制中,對于目標(biāo)值的應(yīng)答將變快,也可以更快實現(xiàn)對于干擾的穩(wěn)定。
參數(shù)說明:
2.3 PID控制器的功能說明
PID控制器動作框圖
2.4 方案實施
在實驗室通過傳感器檢測信號(濃度值),變送成4mA~20mA的電流信號,接OMRON PLC的AI模塊,經(jīng)A/D轉(zhuǎn)換輸入到OMRON PLC中,經(jīng)輸入量程轉(zhuǎn)換為實際的濃度值顯示在觸摸屏上,該值和觸摸屏的設(shè)定值(所需要的濃度值)比較,進行PID控制運算得到操作量,控制輸出信號燈(對水閥門正向動作或逆向動作)再經(jīng)過輸出量程轉(zhuǎn)換控制信號燈(對水閥門正向動作或逆向動作)和D/A轉(zhuǎn)換得到4mA~20mA的電流信號去控制顯示儀表(對水調(diào)節(jié)閥開度大?。?,最終實現(xiàn)濃度的閉環(huán)控制。
實驗過程是用砝碼逐漸加減載在傳感器上模擬濃度值的變化,觀察在觸摸屏上及顯示儀表數(shù)據(jù)變化,分析觸摸屏上參數(shù)曲線趨勢圖。通過在實驗室反復(fù)編程及數(shù)據(jù)處理得出本實驗的運行速度和控制品質(zhì)是滿足預(yù)定條件的。
在觸摸屏上同時可顯示生產(chǎn)線所需了解的參數(shù),如毛布速度、料坯厚度、小料層厚度、成型圈數(shù)等。
3結(jié)束語
為了解決硅酸鈣板料漿濃度控制問題,通過實驗驗證了基于PLC的閉環(huán)控制系統(tǒng)PID控制的可行性。在此基礎(chǔ)上將進行生產(chǎn)線的現(xiàn)場安裝測試,以解決硅酸鈣板生產(chǎn)的板厚不穩(wěn)定問題。
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